真空燒結爐加熱工件無氧化、無脫碳、無合金元素貧化，脫脂脫氣，真空提純，避免氫脆，能實現分級等溫淬火，能控制加熱與冷卻，為自動化、柔性化生產奠定基礎。但在使用加熱的時候需要注意下面四點： 　　1、測試真空燒結爐爐溫均勻性時，應注意測溫觸點的定位***方式，以及離加熱元件的遠近。箱式電阻爐爐內經常(至少每月)用毛刷、掃帚或壓縮空氣、吸塵器等清潔爐膛和擱磚，要防止爐內氧化皮等雜質掉在電熱元件上，發生短路，甚至燒壞擱磚。底板、坩堝、爐罐等耐熱鋼構件每使用一段時間吊起敲擊，清除其氧化皮。氧化鐵皮等雜質如不及時清除，就會熔融與耐火磚發生反應，使爐絲熔化。 　　2、要避免熱處理產品，尤其足銅、鋁、鋅、錫、鉛等與電加熱元件接觸，無論是細粉、熔液或蒸汽等，防止在電加熱體表面侵蝕形成“麻坑”，截面變小再后過熱而燒斷。 　　3、真空燒結爐升溫后，不能長時間開啟爐門。當溫度高于400℃時，不得急劇冷卻。對于電熱元件在溫度高、冷熱變化大情況下容易引起氧化掉皮。對于鉬加熱爐，EI常使用維護中注意應冷卻至200℃以下方可停送保護氣。 　　4、引出棒與線夾子應接觸良好，引出棒與夾子接觸而應光滑。引出棒不能有發紅現象，供電時線夾子的升溫***高不超過60℃。注意由于升溫停止真空燒結爐爐時的熱脹冷縮以及蠕變伸長等，引出棒接線夾子的螺栓容易發生氧化松動形成虛接短路，要定期檢查擰緊。

　　氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。